本学、科学技術創成研究院 フロンティア材料研究所の細野秀雄教授、神谷利夫教授と川副博司名誉教授が、「無機電子機能材料の創出と応用に関する研究」で、28年間受賞者のいなかった日本セラミックス大賞を受賞しました。
後列右から川副博司名誉教授、神谷利夫教授、細野秀雄教授
日本セラミックス協会の表彰で最高位の「日本セラミックス大賞」は、セラミックスの産業において発明、開発あるいは実用化等又はセラミックスの科学・技術に関する発見等において独創性のある画期的な業績を挙げた研究者に授与されます。28年前に銅酸化物のセラミックス超伝導体の研究で世界をリードした東京大学の研究グループと、セラミックスターボチャージャを開発した日本特殊陶業株式会社と日本ガイシ株式会社の研究者に贈られて以来、受賞者が出ていませんでした。
28年ぶりになるセラミックス大賞の授賞式は、6月3日に同協会の総会で行われました。セラミックスの主原料である透明な酸化物を対象に、独自の物質設計指針に基づき、透明p型半導体、大きな電子移動度をもつ透明アモルファス酸化物半導体（TAOS）などを創出し、紫外発光ダイオード、IGZOに代表される高移動度薄膜トランジスタや酸化物CMOSなどの電子デバイスを実現することで、透明酸化物エレクトロニクスの領域を切り拓いたことが評価されました。
受賞者代表 細野秀雄教授のコメント
この研究は、旧応用セラミックス研究所において、川副、細野、神谷の3代、20余年に亘り実施してきたものです。先ごろ急逝された宇田川重和名誉教授をはじめ、すずかけ台と大岡山キャンパスの先生方のご推挙の賜物です。本学のセラミックスの研究実績は、世界のトップレベルにありますが、新しい潮流や分野融合が急速に進んでいますので、果敢に挑戦が不可欠な状況です。引き続き、研究に精進したいと思います。
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